现代分析与计算中心邀请IONTOF公司技术总监Dr. Sven Kayser.和PHI公司表面分析技术应用专家鲁德凤博士为我校师生作学术报告,请感兴趣的师生参加。

讲座题目：飞行时间二次离子质谱的最新进展与应用

讲座摘要：飞行时间二次离子质谱(TOF- SIMS)是一种非常灵敏的表面检测技术。它可以获得关于表面、薄膜以及样品界面的元素和分子的详细信息，并且给出完整的三维分析。这种技术的应用范围十分广泛，包括半导体、高分子材料、油漆、镀层、玻璃、纸、金属、陶瓷、生物材料、药物以及有机组织等。最新进展包括第二代分析Bi源，用于有机薄膜剥离的GCS源，以及动态离子扩展技术（EDR）等。

讲座时间：2017年11月22日 9：00 – 12：00

主讲人：

Dr. Sven Kayser：Sven Kayser was born in Münster, Germany on 20th May 1969 and received the Diploma degree in Physics (within the department of surface science) from the University of Muenster in 1996. Since 1995 he was a member of the research group of Prof. Benninghoven. His work focused on the post ionisation of sputter molecules using 193 nm pico-second laser pulses. In 1996 he joined the IONTOF company. Here he was initially responsible for the world-wide after sales service. At the beginning of 2004 he became the Sales and Marketing Manager of IONTOF.

鲁德凤，PHI公司表面分析技术应用专家，有超过15年TOF-SIMS应用经验，对XPS、AES、TOF-SIMS等表面分析设备有很深入的了解。

现代分析与计算中心

2017年11月17日郑州大学版权所有，禁止非法转载！2020-10-14 13:22:32